Huawei recherche en permanence des technologies d’impression de chipset et les deux brevets récents suggèrent que la recherche progresse rapidement. En plus de cela, Huawei recherche également de nouveaux brevets pour la lumière ultraviolette extrême de lithographie Machines.

Lithographie:

La technologie de lithographie est l’étape la plus critique dans la fabrication de chipsets. La raison pour laquelle la technologie des puces a pu se développer progressivement de 100 microns à 3 nm au cours des 60 dernières années est due aux machines de lithographie. Sans machine de lithographie, il n’y a pas de fabrication de chipset.

Par conséquent, Huawei recherche de nouvelles technologies pour l’impression et la fabrication de chipsets.

Examinons brièvement ces brevets.

Premier brevet :

Un brevet déposé le 13 mai 2021, vient d’être publié. Les détails techniques de ce brevet couvrent les technologies liées à la lumière ultraviolette extrême.

Des détails montrent un dispositif de lithographie et un procédé de commande de celui-ci, qui concernent le domaine de l’optique et peuvent résoudre le problème selon lequel une lumière cohérente ne peut pas être uniformisée en raison de la formation d’un motif d’interférence fixe.

La surface réfléchissante du miroir réfléchissant comprend une pluralité de surfaces micro-réfléchissantes. La pluralité de surfaces microréfléchissantes comprend une première surface microréfléchissante et une seconde surface microréfléchissante adjacente à la première surface microréfléchissante.

Il existe une différence de hauteur Ah entre la première surface micro-réfléchissante et la deuxième surface micro-réfléchissante, et la différence de hauteur Δh Situé dans l’intervalle de (0, ka]où λ est la longueur d’onde de la lumière ultraviolette extrême, tandis que k est un entier positif supérieur ou égal à 1.

Deuxième brevet :

Le deuxième brevet est intitulé « Miroir, dispositif de photolithographie et méthode de contrôle ». Il a un numéro de demande de brevet CN202110524685.X. Cela peut résoudre le problème que la lumière cohérente ne peut pas être homogénéisée en raison de la formation d’un motif d’interférence fixe, qui est également un problème courant dans la lithographie EUV.

Le brevet montre un dispositif de lithographie, qui rend l’intensité lumineuse accumulée du champ de vision d’éclairage uniforme pendant le temps d’exposition en changeant continuellement le motif d’interférence formé par la lumière cohérente.

Ce sera l’appareil pour atteindre l’objectif d’une lumière uniforme. Cela résout également le problème de l’art connexe selon lequel la lumière ne peut pas être uniformisée en raison de la lumière cohérente formant un motif d’interférence fixe.

On peut observer que Huawei a fait des recherches pour résoudre le problème du col de la puce pour les machines de lithographie, car il s’agit d’un élément essentiel des percées pour le développement des chipsets.

Résultat:

Il semble que Huawei repousse ses limites dans le domaine des machines de lithographie. Pendant ce temps, la technologie de lithographie montre que Huawei fera une percée, combinée avec d’autres sociétés à l’avenir.

Par conséquent, il est possible que Huawei réalise une machine d’impression de chipset 100 % chinoise dans un avenir proche.