Semiconductor Manufacturing International Corp (SMIC), le plus grand fabricant de puces chinois, produirait en masse des puces de 5 nanomètres pour Huawei Technologies plus tard cette année, malgré de faibles rendements et des coûts de production élevés.

Les commentateurs ont déclaré que Huawei et le SMIC étaient déterminés à faire avancer ce projet coûteux, car Pékin veut montrer au monde que les entreprises chinoises peuvent réaliser des percées technologiques malgré l'interdiction américaine d'exporter des puces. Ils ont déclaré qu’il s’agissait plus probablement d’un projet politique que d’un projet commercialement réalisable.

Les ingénieurs en puces ont déclaré qu'il était techniquement possible d'utiliser la lithographie par immersion dans l'ultraviolet profond (DUV) pour produire des puces de 5 nm, mais que le coût peut être plusieurs fois supérieur à celui de la lithographie dans l'ultraviolet extrême (EUV). Ils ont déclaré que SMIC pourrait être capable de fabriquer des puces de 7 nm et 5 nm avec des rendements de 50 % et 30 à 40 %, respectivement.

Le Financial Times signalé Mardi, SMIC utilisera son stock existant d'équipements fabriqués aux États-Unis et aux Pays-Bas pour produire en masse des systèmes sur puces (SoC) Kirin de 5 nm. Il a déclaré que SMIC fixe le prix de ses produits 5 nm et 7 nm à une prime de 40 à 50 % par rapport à ce que TSMC facture pour des nœuds technologiques similaires.

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Citant certains experts, le FT a déclaré que le rendement des puces 7 nm de SMIC est inférieur à un tiers de celui des produits similaires de TSMC.

Huawei et SMIC peuvent utiliser les équipements DUV encore existants pour produire du 5 nm, mais le coût sera très élevé, a déclaré Burn Lin, ancien vice-président de Taiwan Semiconductor Manufacturing Co et actuel doyen de l'Université nationale Tsing Hua à Hsinchu à Taiwan, dit Bloomberg dans une interview en octobre dernier.

La production de puces de 5 nm avec une lithographie DUV nécessite une technique de structuration en quatre temps, qui comprend de multiples expositions et processus de gravure, a-t-il déclaré. dit. La configuration multiple prend du temps et peut entraîner un faible rendement si les expositions ne sont pas effectuées avec précision, a-t-il déclaré.

Selon lui, les États-Unis devraient se concentrer sur le maintien de leur leadership en matière de conception de puces, au lieu d'essayer de limiter les progrès de la Chine. Il a souligné que Pékin avait adopté une stratégie « nationale » pour stimuler son industrie des puces.

Le président chinois Xi Jinping dit lors de la cérémonie de remise des Prix nationaux des ingénieurs le 19 janvier, les ingénieurs et techniciens locaux devraient aider le pays à atteindre une grande autonomie et une force scientifique et technologique en réalisant des percées dans les technologies de base dans des domaines clés et en développant des projets de haute qualité.

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Le président chinois Xi Jinping a déclaré lors de la cérémonie de remise des Prix nationaux des ingénieurs le 19 janvier que les ingénieurs et techniciens locaux devraient aider le pays à atteindre une grande autonomie et une force scientifique et technologique en réalisant des percées dans les technologies de base dans des domaines clés et en développant des technologies de haute qualité. projets. Photo : Xinhua

Puces de 7 nm

En août dernier, Huawei a lancé à la surprise générale la puce Kirin 9000s dans son téléphone Mate60 Pro. Les experts en technologie ont découvert plus tard que la puce de 7 nm avait été fabriquée par le SMIC avec son procédé N+2 via lithographie DUV.

En décembre 2023, Huawei a dévoilé l'ordinateur portable Qingyun L540 qui utilise une puce Kirin appelée 9006C. Les commentateurs avaient autrefois émis l’hypothèse que Huawei avait réalisé de nouvelles avancées technologiques.

TechInsights, un fournisseur canadien de solutions technologiques, dit début janvier, les puces 9006C provenaient de l'inventaire livré avant que TSMC ne soit interdit par les États-Unis de fabriquer des puces pour Huawei à la mi-septembre 2020.

Une source industrielle anonyme dit The Elec, un site d'information sud-coréen, a annoncé en décembre dernier que SMIC préparait son procédé 5 nm via DUV. Il a déclaré que l'offre de pièces détachées pour le DUV ne pouvait pas répondre à la demande en Chine et que l'utilisation des photomasques devrait encore augmenter.

Un photomasque dans une machine de lithographie est une plaque opaque avec des zones transparentes qui permettent à la lumière de briller selon un motif défini pour obtenir une exposition.

Rédacteur technologique chez Wccftech.com, un site Web d'information basé à Vancouver, dit le rendement attendu du processus 5 nm du SMIC utilisant le matériel DUV actuel sera d'environ 30 à 40 %.

SMIC n'a jamais divulgué le rendement de ses puces de 7 nm ou moins. Citant certains analystes, Reuters estimé que Le processus 7 nm de SMIC a un taux de rendement inférieur à 50 %.

Début 2017, TSMC a commencé pour produire des puces mémoire de 7 nm en utilisant un procédé appelé N7FF+ avec lithographie EUV. Avant cela, le fabricant de puces taïwanais utilisait la lithographie DUV pour produire du 7 nm avec un rendement de 76 %.

Selon les médias, TSMC a déjà augmenté le rendement de ses puces 7 nm et 5 nm. 93,5% et 80%respectivement, en 2019. TSMC fabrique désormais des puces de 3 nm avec un rendement de 55%en concurrence avec les 60 à 70 % de Samsung.

NXT:2000i

Certains analystes dit SMIC a utilisé le NXT:2000i d'ASML pour produire le Kirin 9000S.

Citant un expert anonyme de l'industrie de la fabrication de puces, Caijing.com signalé en novembre dernier, il existait en Chine moins de cinq systèmes ASML aussi avancés que NXT:2000i.

ASML a déclaré en juin dernier qu'elle devrait demander des licences d'exportation auprès du gouvernement néerlandais pour toutes les expéditions de ses systèmes de lithographie par immersion DUV les plus avancés, le NXT:2000i et les systèmes d'immersion ultérieurs.

Le 1er janvier de cette année, le gouvernement néerlandais a partiellement révoqué sa licence pour l'expédition des systèmes de lithographie NXT:2050i et NXT:2100i vers la Chine à partir du début de cette année.

Mais il n'a pas précisé si sa licence d'exportation pour l'expédition du NXT:2000i avait également été révoquée.

En fait, SMIC peut également utiliser le NXT:1980Di, une ancienne génération de lithographie DUV par immersion, pour fabriquer des puces de 5 nm ou 7 nm, mais le rendement sera encore plus faible.

Lire : Interdiction des DUV haut de gamme : les dégâts causés par la Chine se concentrent

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